Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів
11

In-situ X-ray Diffraction study of Metal Induced Crystallization of amorphous silicon

Рік:
2008
Мова:
english
Файл:
PDF, 850 KB
english, 2008
12

Texture of CoSi2 films on Si(111), (110) and (001) substrates

Рік:
2010
Мова:
english
Файл:
PDF, 1.07 MB
english, 2010
17

Texture in thin film silicides and germanides: A review

Рік:
2016
Мова:
english
Файл:
PDF, 12.44 MB
english, 2016
23

Atomic layer deposition of titanium nitride from TDMAT precursor

Рік:
2009
Мова:
english
Файл:
PDF, 434 KB
english, 2009
25

Towards implementation of a nickel silicide process for CMOS technologies

Рік:
2003
Мова:
english
Файл:
PDF, 652 KB
english, 2003
28

Solution derived ZnO:Al films with low resistivity

Рік:
2012
Мова:
english
Файл:
PDF, 858 KB
english, 2012
29

AlSi matrices for U(Mo) dispersion fuel plates

Рік:
2013
Мова:
english
Файл:
PDF, 1.29 MB
english, 2013
36

Surface engineering of low enriched uranium–molybdenum

Рік:
2013
Мова:
english
Файл:
PDF, 3.13 MB
english, 2013
41

Effect of metal liner on electromigration in Cu Damascene lines

Рік:
2005
Мова:
english
Файл:
PDF, 523 KB
english, 2005
48

Visualization and classification of epitaxial alignment at hetero-phase boundaries

Рік:
2016
Мова:
english
Файл:
PDF, 2.61 MB
english, 2016
50

CoSi2 formation using a Ti capping layer - The influence of processing conditions on CoSi2 nucleation.

Рік:
2001
Мова:
english
Файл:
PDF, 78 KB
english, 2001